Engineering | Precision Mechanics | Topography | Quality

Our popular workshop TopMap Day goes Switzerland: Together with our reknown partners Prof. Dr. Lüthi from HE-ARC and B&K Metrology, on January 28th, 2025 we will offer a technical premium seminar and workshop on surface metrology. The TopMap Day 2025 at the Haute-École in Neuchâtel features high-class speakers and presentations, practical interpretations on current standards of machining and precision mechanics, including hands-on measurements on cutting edge optical surface metrology systems. 
Notre atelier TopMap Day, très apprécié, s'installe en Suisse : Lüthi de la HE-ARC et B&K Metrology, nous proposerons le 28 janvier 2025 un séminaire et un atelier de haut niveau sur la métrologie des surfaces. Le TopMap Day 2025 à la Haute-École de Neuchâtel comprend des orateurs et des présentations de haut niveau, des interprétations pratiques sur les normes actuelles de l'usinage et de la mécanique de précision, y compris des mesures pratiques sur des systèmes de métrologie de surface optiques de pointe.

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TopMap Day @HE-ARC in Switzerland

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28th of January 2025
09:00 AM to 05:00 PM

Venue
HE-ARC (Haute École)
Espa. de l'Europe 11, 2000 Neuchâtel, Switzerland

Topics
Expert talks revolving precision mechanics and engineering, ISO conformity, (sub)nm topography and roughness measurement

Discussions d'experts sur la mécanique et l'ingénierie de précision, la conformité ISO, la topographie (sub)nm et la mesure de la rugosité.

Live-Demonstration
Analysis of your measurement task based on your samples incl. measurement report

Analyse de votre tâche de mesure sur la base de vos échantillons, y compris le rapport de mesure

Key topics

High-resolution roughness measurement <1nm; sample data of a polished silicon surface
High-resolution roughness measurement <1nm; sample data of a polished silicon surface

Roughness, texture & structural details

Non-contact and areal topography scanning on smooth or rough surfaces, also the new ISO 21920 and what changes

Numérisation topographique sans contact et aréolaire sur des surfaces lisses ou rugueuses, ainsi que la nouvelle norme ISO 21920 et les changements qu'elle apporte

Watchmaker industry using optical 3D profiles for quality control of watch precision mechanical parts
Watchmaker industry using optical 3D profiles for quality control of watch precision mechanical parts

Precision mechanics & watchmaking

Where precision is a must: Watchmaking and high precision machining and quality control and relevant ISO standards

Lorsque la précision est indispensable : Horlogerie et usinage de haute précision, contrôle de la qualité et normes ISO pertinentes

Microstructures & microtechnology

Inspections with vertical resolution in (sub-)nm range of structural details, microtechnology and more

Inspections avec résolution verticale dans la gamme des (sub-)nm des détails structurels, de la microtechnologie, etc.

Theory & practice: We measure your samples

We measure your sample! In the practical part of the workshop, our experts will analyze your individual measurement task and measure your available samples – including a free measurement report. Contact us prior to the event or bring your specimen.

Nous mesurons votre échantillon ! Dans la partie pratique de l'atelier, nos experts analyseront votre tâche de mesure individuelle et mesureront vos échantillons disponibles - avec un rapport de mesure gratuit. Contactez-nous avant l'événement ou apportez votre échantillon.

Agenda

9:00 AM Reception of participants

Welcome 
Prof. Jean-Daniel Luthi, HE-ARC & Anton von Kaenel, Bruel&Kjaer 

White-light interferometry: Capture millions of measuring points with outstanding accuracy
Okan Topal, Application Engineer Polytec

Supercritical CO2 assistance during machining (FR) // Assistance CO2 supercritique lors de l'usinage (FR)
Frédéric Rossi, ENSAM France, HE-ARC

Roughness & ISO 21920: What is roughness & what will change with the new standard?
Dr. Josef Frohn, Consultant Polytec

Machining lead-free materials: lead in the wing (FR) // Usinage des matériaux sans plomb / du plomb dans l’aile (FR)
Gilles Greub, HE-ARC

Application examples from micro to macro: Precision mechanics, semiconductors & MEMS from sub-nm perspective
Nicole Brodhag, Application Engineer Polytec

Application of the ISO-GPS standard on watch components (FR) // Application de la norme ISO-GPS sur les composants horlogers (FR)
Olivier Duvanel, HE-ARC 

FTP Flatness Thickness Parallelism: Combined top & bottom topography measurement
Okan Topal, Application Engineer Polytec

Hands-on measurements with equipment
Analysis of available samples, measurement & evaluation of individual quality inspections
 

 

Knowledge & networking

  • This workshop is for all metrology starters and experts, for future researchers and industry experts, quality or research technicians and engineers, from lab to production.
  • Polytec offers this free-of-charge workshop for confirmed audiences. We kindly ask you to conver your own organization and transportation.
  • Receive a certificate of training featuring all workshop documentation and an individual topography measurement report on your available sample.
     

Registration closes 15th of January, 2025, depending on number of registrations. With limited seats, Polytec as co-host cannot guarantee any participation.

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Connaissance et mise en réseau

  • Cet atelier s'adresse à tous les débutants et experts en métrologie, aux futurs chercheurs et experts de l'industrie, aux techniciens et ingénieurs de la qualité ou de la recherche, du laboratoire à la production.
  • Polytec propose cet atelier gratuit pour les publics confirmés. Nous vous demandons de prendre en charge votre organisation et votre transport.
  • Recevez un certificat de formation comprenant toute la documentation de l'atelier et un rapport individuel de mesure de la topographie sur votre échantillon disponible.


La date limite d'inscription est fixée au 15 janvier 2025, en fonction du nombre d'inscriptions. Le nombre de places étant limité, Polytec, en tant que co-organisateur, ne peut garantir aucune participation.

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